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二氧化硅分析裝置

簡(jiǎn)要描述：應(yīng)用領(lǐng)域 化工,石油,電子 二氧化硅分析裝置自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測(cè)速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅，也可檢測(cè)高濃度二氧化硅，可有效提高鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：SLIA-2000
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2023-07-27
  • 訪  問  量：287

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二氧化硅分析裝置

自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測(cè)速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅，也可檢測(cè)高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。

測(cè)量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L

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自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測(cè)速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅，也可檢測(cè)高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。

測(cè)量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L

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